半導体消耗材の販売の專門商社 当社は誠実さを企業理念とし、お客様に最高品質の製品を提供するために最善を尽くします
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江戸セミテクノロジー株式会社
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高品質ウェハを安定供給 ― 小ロット・即納対応

当社では、12インチシリコンウェハを豊富に在庫しております。常時1億円分の在庫を保有し、小ロットから即納対応が可能です。 月間3〜4万枚の出荷実績を誇り、多くのエンドユーザー様へ安定的に供給しています。コストパフォーマンスにも優れ、高品質・低価格のウェハを迅速にお届けいたします。

12 inch Silicon Wafer
サイズ 12inch(≦50@0.2µm) 12inch(≦50@0.12µm) 12inch(≦50@0.09µm) 12inch(≦50@0.065µm) 12inch(≦50@0.050µm) 12inch(≦50@0.037µm) 12inch ≦50@0.026µm) 12inch ≦50@0.019µm)
直径(mm) 300±0.2 300±0.2 300±0.2 300±0.2 300±0.2 300±0.2 300±0.2 300±0.2
厚み(μm) 775±25 775±25 775±25 775±25 775±25 775±25 775±25 775±25
タイプ/ドーパント P/Boron P/Boron P/Boron P/Boron P/Boron P/Boron P/Boron P/Boron
面方位 <100> <100> <100> <100> <100> <100> <100> <100>
ノッチ方位 Notch: SEMI Std <110> Notch: SEMI Std <110> Notch: SEMI Std <110> Notch: SEMI Std <110> Notch: SEMI Std <110> Notch: SEMI Std <110> Notch: SEMI Std <110> Notch: SEMI Std <110>
抵抗値(Ω・㎝) 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100
パーティクル ≦50@0.2µm ≦50@0.12μm ≦50@0.09µm ≦50@0.065µm ≦50@0.050µm ≦50@0.037µm ≦50@0.026µm ≦50@0.019µm
面状態 ミラー/ミラー ミラー/ミラー ミラー/ミラー ミラー/ミラー ミラー/ミラー ミラー/ミラー ミラー/ミラー ミラー/ミラー
金属汚染 <1E10 atom/cm2 <1E10 atom/cm2 <1E10 atom/cm2 <1E10 atom/cm2 <1E10 atom/cm2 <1E10 atom/cm2 <1E10 atom/cm2 <1E10 atom/cm2
TTV(μm) ≦5 ≦5 ≦1 ≦1 ≦1 ≦1 ≦1 ≦1
Bow(μm) ≦40 ≦40 ≦40 ≦40 ≦40 ≦40 ≦40 ≦40
WARP(μm) ≦40 ≦40 ≦40 ≦40 ≦40 ≦40 ≦40 ≦40
納期 即納可能 即納可能 即納可能 2-3weeks 2-3weeks 2-3weeks 2-3weeks 2-3weeks

特殊仕様にも対応 ― 高抵抗・低抵抗・厚膜ウェハのカスタム提供

当社では、8インチから2インチまでのシリコンウェハを豊富に取り揃え、用途に応じたカスタム仕様にも対応しています。 標準品に加え、以下のような特殊ウェハの製作・供給が可能です: 厚さ1000μm以上の厚膜ウェハ 抵抗値1000Ω・10000Ω以上の高抵抗ウェハ 抵抗値0.005Ω以下の低抵抗ウェハ 試作・研究開発・特殊プロセス用途など、一般品では対応が難しい条件にも柔軟に対応いたします。 小ロット対応・短納期出荷が可能で、品質管理体制を整えた安定供給を実現しています。

2-8inch Silicon Wafer(Test Grade)
サイズ 2inch 3inch 4inch 6inch 8inch
直径(mm) 50.8±0.38 76±0.63 100±0.5 150±0.2 200±0.2
厚み(μm) 280±25 380±25 525±25 625±25 725±25
タイプ/ドーパント P(Boron) P(Boron) P(Boron) P(Boron) P(Boron)
面方位 <100> <100> <100> <100> <100>
フラット/ノッチ オリフラ オリフラ オリフラ オリフラ ノッチ
オリフラ方位/ノッチ方位 <110> <110> <110> <110> <110>
抵抗値(Ω・㎝) 1-100 1-100 1-100 1-100 1-100
パーティクル ≥0.3um,≤20ea ≥0.3um,≤20ea ≥0.3um,≤20ea ≥0.3um,≤30ea ≥0.2um,≤30ea
面状態 ミラー/エッチド ミラー/エッチド ミラー/エッチド ミラー/エッチド ミラー/エッチド
金属汚染 ≤5E10atoms/cm2 ≤5E10atoms/cm2 ≤5E10atoms/cm2 ≤5E10atoms/cm2 ≤1E10atoms/cm2
TTV(μm) ≦10 ≦10 ≦10 ≦10 ≦10
Bow(μm) ≦40 ≦40 ≦40 ≦40 ≦40
WARP(μm) ≦40 ≦40 ≦40 ≦40 ≦40
納期 2-3週間(在庫がある場合は即納) 2-3週間(在庫がある場合は即納) 2-3週間(在庫がある場合は即納) 2-3週間(在庫がある場合は即納) 2-3週間(在庫がある場合は即納)

再生ウェハの母材として最適 ― 設備調整・テスト用途にも対応

当社では、再生ウェハの母材として使用可能なCOIN ROLLウェハを提供しています。 また、ダイシング用・研磨テスト用・設備調整時など、各種プロセス用途にもご利用いただけます。 弊社が提供する母材は、最大26nmプロセスに対応し、良品率80%の高品質ウェハを安定供給可能です。 安定した品質とコストパフォーマンスを両立し、再生業者様や装置メーカー様など多様なお客様にご評価いただいております。

主な製品

  • 再生用母材
  • ダイシングテスト用
  • テープ剝離テスト用